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簡(jiǎn)要描述：CVD鑽石光學(xué)元件多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長(cháng)期以來(lái)一直被認為是各種應用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導熱性使它在熱管理應用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導體制造的尖/端光刻系統。
產(chǎn)品品牌：其他品牌廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2022-11-25訪(fǎng) 問(wèn) 量：715相關(guān)文章
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| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 其他 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
CVD鑽石光學(xué)元件
CVD鑽石光學(xué)元件
多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長(cháng)期以來(lái)一直被認為是各種應用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導熱性使它在熱管理應用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導體制造的尖/端光刻系統。此外，它在微波波段的透明度為微波工程的應用開(kāi)發(fā)開(kāi)辟了一個(gè)完整的世界。在其較純凈的形式下，多晶CVD鉆石沒(méi)有電子陷阱，使其成為高能應用中使用的超敏感核探測器的理想材料。
通過(guò)等離子體化學(xué)氣相沉積法生長(cháng)，II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過(guò)優(yōu)化，充分利用了使鉆石成為超級材料的品質(zhì)。II-VI Incorporated將晶體生長(cháng)與較*的光學(xué)級加工相結合，通過(guò)整形和拋光、質(zhì)量保證和涂層，其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測器。II-VI Incorporated對金剛石材料研究和開(kāi)發(fā)的強烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質(zhì)的所有市場(chǎng)客戶(hù)密切合作。
透明窗和光學(xué)器件
在II-VI ，光學(xué)金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質(zhì)光學(xué)質(zhì)量的材料（低1微米散射，低10.6微米體吸收，低632.8納米的雙折射），其截面尺寸和厚度范圍廣泛。
通過(guò)利用制造和涂層方面的核心技術(shù)，II-VI ，成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌，這對下一代半導體制造的*光刻工具至關(guān)重要。
熱管理解決方案
通過(guò)調整我們的生長(cháng)過(guò)程，II-VI ，已經(jīng)開(kāi)發(fā)出為各種高性能熱管理應用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導率的規格范圍高達2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設施，我們能夠根據客戶(hù)的規格制造出直徑大至145mm、厚度達2mm的超平和超光滑的部件，以確保與設備的優(yōu)良的熱接觸。
微波透明光學(xué)器件
II-VI 制造高質(zhì)量的鉆石光學(xué)產(chǎn)品，在微波區域是透明的。結合我們內部對直徑大至145mm的窗口和透鏡進(jìn)行拋光和鍍膜的能力，II-VI 已經(jīng)準備好滿(mǎn)足核聚變研究等領(lǐng)域對微波透明材料的需求。
加工解決方案
II-VI 已經(jīng)開(kāi)發(fā)出一種金剛石薄膜，在加工較堅硬的材料時(shí)，擁有堪稱(chēng)典/范的硬度和磨損率。通過(guò)將我們較*的拋光和制造技術(shù)與我們內部的激光制造設施相結合，我們能夠以有競爭力的價(jià)格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。
核檢測器解決方案
使用精細調整的超高純生長(cháng)工藝，II-VI ，生長(cháng)出的多晶金剛石薄膜表現出優(yōu)良的電荷收集距離。對于500微米厚的成品部件，可以獲得一致的結果。
主要的CVD鉆石應用
CVD金剛石的應用包括多光譜激光光學(xué)、介電窗、散熱片等。
金剛石是各種應用的終/極材料，因為它具有出色的性能，包括極/強的硬度和強度、高導熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學(xué)侵蝕以及在寬光譜范圍內的光學(xué)傳輸。
我們在較*的生長(cháng)和制造設施中生產(chǎn)高質(zhì)量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝生長(cháng)，用激光切割成所需的尺寸，并按照客戶(hù)的要求對表面進(jìn)行加工。我們還提供其他特殊的制造服務(wù)，如邊緣研磨、激光雕刻以及光學(xué)組件的設計和制造。II-VI ，專(zhuān)門(mén)為金剛石基片提供*的光學(xué)涂層，包括單波長(cháng)或多光譜應用的AR、HR和TFP。
II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。
用于工業(yè)激光應用的高功率CO2激光窗口（10微米范圍）。
用于工業(yè)或研究應用的高功率多光譜激光窗口。
用于聚變和定向能應用的高功率mm波窗口
用于極/端熱管理應用的熱擴散器
用于需要超硬材料的機械應用的產(chǎn)品。
主要的CVD鉆石應用
CO2激光窗(10.6µm)
- 高功率工業(yè)激光器
高功率微波窗
- 陀螺儀、聚變反應堆
- 雷達、定向能應用
熱管理
- 散熱器
| 生長(cháng)方法 | 等離子化學(xué)氣相沉積 |
物理特性
| 結構 | 立方，多晶 |
| 晶粒大小 | 取決于厚度和工藝（0.05 - 1mm） |
| 等級 | 光學(xué)、熱、微波、探測器、機械、客戶(hù)定制 |
| 厚度* | 最大 2 mm |
制造能力*
| 尺寸 | 激光切割客戶(hù)規格，最大直徑145mm |
| 尺寸公差 | +/- 50µm |
| 拋光縱橫比 | 高達 50:1 的直徑高達 145 mm |
| 功率 | <0.5_fr/cm |
| 不規則度 | <0.5_fr/cm |
| 透射波前 | <0.5_fr/cm |
| 表面粗糙度 | <15nm |
熱性能（熱級材料）
| 導熱系數 | 室溫下高達 >2,200 (W/mK) |
| 熱膨脹系數 | 1 (10-6 K-1) |
| 比熱 (25oC) | 0.536 (J g-1 K-1) |
光學(xué)特性（光學(xué)級材料）*
| 體積吸收@10.6µm <0.07(cm-1) | <0.07(cm-1) |
| 體積吸收@1um <1(cm-1) | <1(cm-1) |
| 散射@1µm <0.7(cm-1) | <0.7(cm-1) |
微波級材料
| 微波損耗角正切(Tan δ) | <2e-5 |
*這代表標準生產(chǎn)。 可根據要求提供產(chǎn)品數據表和規格。
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