簡(jiǎn)要描述:Edmund 極紫外 (EUV) 二向色濾光片,也稱(chēng)為光束分離器,旨在通過(guò)在 EUV 和 NIR 波長(cháng)之間提供高分離效率,用于高諧波產(chǎn)生應用。 這些濾光片采用高損傷閾值多層增透膜設計,支持比布魯斯特角光束分離器和 EUV 濾光片更高的激光功率。 EUV 二向色濾光片具有從 5nm 到 40nm 的寬帶寬范圍。
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品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子 |
Edmund 極紫外 (EUV) 二向色濾光片
將 EUV 與 NIR 激光源分開(kāi)
透射型熔融石英設計最大限度地延長(cháng)組件使用壽命
支持 13.5nm、20nm 和 30nm 應用
Edmund 極紫外 (EUV) 二向色濾光片,也稱(chēng)為光束分離器,旨在通過(guò)在 EUV 和 NIR 波長(cháng)之間提供高分離效率,用于高諧波產(chǎn)生應用。 這些濾光片采用高損傷閾值多層增透膜設計,支持比布魯斯特角光束分離器和 EUV 濾光片更高的激光功率。 EUV 二向色濾光片具有從 5nm 到 40nm 的寬帶寬范圍。 除了產(chǎn)生高次諧波外,這些反射鏡還可用于支持 EUV 應用的系統,例如 EUV 光刻、EUV 納米加工和等離子體實(shí)驗。
通用規格
尺寸容差 (mm): | +0.0/-0.2 | 直徑 (mm): | 50.80 |
厚度 (mm): | 5.08 ±0.1 | 鍍膜: | Dielectric Multilayer AR |
基底: | Fused Silica | 表面質(zhì)量: | 20-10 |
平行度(弧分): | <5 | 面形計算 (RMS): | <λ/10 @ 633nm |
產(chǎn)品型號
波長(cháng)范圍 (nm) | 產(chǎn)品編碼 |
10 - 25 | #18-279 |
20 - 40 | #18-280 |
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