簡(jiǎn)要描述:Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想選擇。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)
Eksma 薄膜激光偏振片(45度角)
薄膜偏振片以45°入射角工作。用作偏振分束器或合束器的理想選擇。
薄膜偏振片以45°入射角分離或組合s偏振和p偏振分量。它們設計用于高能激光器。偏振片由UV FS制成,具有很高的激光損傷閾值,在1064 nm處達到10 J / cm2。
我們提供可在45°入射角下工作的圓形標準和高消光比(Tp:Ts:> 1000:1)偏振片。
產(chǎn)品型號
型號 | 材料 | 波長(cháng) | 尺寸 | 偏振效率 | 消光比 | |||
420-1242i45HE | UV FS | 343 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1242i45 | UV FS | 343 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1512i45HE | UV FS | 343 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1512i45 | UV FS | 343 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1252i45HE | UV FS | 355 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1252i45 | UV FS | 355 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1502i45HE | UV FS | 355 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1502i45 | UV FS | 355 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1244i45HE | UV FS | 515 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1244i45 | UV FS | 515 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1514i45HE | UV FS | 515 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1514i45 | UV FS | 515 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1254i45HE | UV FS | 532 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1254i45 | UV FS | 532 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1504i45HE | UV FS | 532 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1504i45 | UV FS | 532 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1248i45HE | UV FS | 1030 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1248i45 | UV FS | 1030 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1518i45HE | UV FS | 1030 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1518i45 | UV FS | 1030 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1238i45HE | UV FS | 1053 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1238i45 | UV FS | 1053 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1538i45HE | UV FS | 1053 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1538i45 | UV FS | 1053 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1258i45HE | UV FS | 1064 nm | ø 25.4 x 3 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1258i45 | UV FS | 1064 nm | ø 25.4 x 3 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
420-1508i45HE | UV FS | 1064 nm | ø 50.8 x 6 mm | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | |||
420-1508i45 | UV FS | 1064 nm | ø 50.8 x 6 mm | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | |||
材料 | UV FS | |||||||
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) | |||||||
透射波前畸變 | λ/10 @ 633 nm | |||||||
平行性 | < 30 arcsec | |||||||
通光孔徑 | > 90% | |||||||
入射角 | 45°±2° | |||||||
直徑公差 | +0.0 -0.12 mm | |||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | |||||||
激光損傷閾值 | 10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz | |||||||
消光比Tp / Ts | >200:1 (for standard series) >1000:1 (for HE series) |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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