簡(jiǎn)要描述:Eksma UVFS激光線(xiàn)反射鏡-4高反射率(> 99%反射率)激光線(xiàn)鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma UVFS激光線(xiàn)反射鏡-4
高反射率(> 99%反射率)激光線(xiàn)鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。適用于UV,VIS和NIR激光器。
Eksma UVFS激光線(xiàn)反射鏡-4
產(chǎn)品介紹
Ø高反射鏡(反射率> 99%)
Ø設計用于45°或0°入射角
Ø由紫外線(xiàn)等級的熔融石英制成
Ø對于由BK7材料制成的激光線(xiàn)鏡,請單擊此處
激光線(xiàn)反射鏡是介電反射鏡,在規定的激光波長(cháng)下具有優(yōu)良性能。我們的激光鏡由石英制成,并涂有多層電介質(zhì)或IBS鍍膜。對于低波前畸變,低散射和高損傷閾值,鏡子亞表面的高拋光質(zhì)量也很重要。
介電紫外熔融石英激光線(xiàn)鏡在UV,VIS和NIR光譜中涵蓋了廣泛的激光應用。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號
UVFS; ø50.8x8 mm
型號 | D | ET | R, % (S+P)/2 | AOI | 波長(cháng) | 應用 |
045-0240 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 244-248 nm | KrF |
045-0240-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 244-248 nm | KrF |
045-0260 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
045-0260-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 262-266 nm | Nd:YAG 4H |
045-0266 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 45° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
045-0266-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.0% | 0° | 257-275 nm | Ti:Sa 3H |
045-0300 | 50.8 mm | 8 mm | 99.2% | 45° | 308 nm | XeCl |
045-0300-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.2% | 0° | 308 nm | XeCl |
045-0325 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 325 nm | HeCd |
045-0325-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 325 nm | HeCd |
045-0343 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
045-0343-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 333-353 nm | Yb:KGW/KYW 3H |
045-0347 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 347 nm | Ruby |
045-0347-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 347 nm | Ruby |
045-0350 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0350T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 351-361 nm | Nd:YAG 3H |
045-0400 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
045-0400-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 380-420 nm | Ti:Sa 2H |
045-0515 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
045-0515-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 500-530 nm | Yb:KGW/KYW 2H |
045-0530 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0530T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 527-532 nm | Nd:YAG 2H |
045-0800 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-0800T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 760-840 nm | Ti:Sa 1H |
045-1030 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1030T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 1H |
045-1060 | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060-i0 | 50.8 mm | 8 mm | 99.8% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060T12HHR | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 45° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
045-1060T12HHR-i0 | 50.8 mm | 12 mm | 99.9% | 0° | 1047-1064 nm | Nd:YAG 1H |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡(jiǎn)單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì)或離子束濺射 |
附著(zhù)力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于實(shí)驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過(guò)中心直徑的85% |
損壞閾值 | 6 J / cm2,8納秒脈沖,典型值1064 nm |
鍍膜表面平整度 | 通光孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
入射角 | 0°或45° |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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