簡(jiǎn)要描述:Eksma 激光諧波分離器這些諧波分離器包括二向色性反射器鍍膜,應應用在高精度窗戶(hù)的前表面上。它們用于通過(guò)選擇性光譜反射和透射來(lái)分離倍頻激光系統的各種諧波分量。在所有情況下,通過(guò)反射選擇一個(gè)波長(cháng),然后透射其他波長(cháng)。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 激光諧波分離器
Eksma 激光諧波分離器
這些諧波分離器包括二向色性反射器鍍膜,應應用在高精度窗戶(hù)的前表面上。
產(chǎn)品介紹
這些諧波分離器包括二向色性反射器鍍膜,應應用在高精度窗戶(hù)的前表面上。它們用于通過(guò)選擇性光譜反射和透射來(lái)分離倍頻激光系統的各種諧波分量。在所有情況下,通過(guò)反射選擇一個(gè)波長(cháng),然后透射其他波長(cháng)。
產(chǎn)品型號
鍍膜型號 | 波長(cháng), nm | AOI=0° | AOI=45° | 推薦 | 損傷 | |||
AOI=0° | AOI=45° | R/T | R, % | T, % | R, % | T, % | 基材 | 閾值 |
2506-i0 | 2506-i45 | 200-220/390-450 | >90.0 | >85 | >90.0 | >80 | UVFS | 1 J/cm2 |
2510-i0 | 2510-i45 | 355/532+1064 | >99.0 | >93 | >99.0 | >90 | UVFS | 1 J/cm2 in 10 ns |
2514-i0 | 2514-i45 | 380-420/720-820 | >99.0 | >90 | >99.0 | >90 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 in 10 ns |
2518-i0 | 2518-i45 | 532/1064 | >99.5 | >95 | >99.5 | >95 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 in 10 ns |
2522-i0 | 2522-i45 | 600/1200 | >99.5 | >95 | >99.5 | >95 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 in 10 ns |
2526-i0 | 2526-i45 | 800/400 | >99.5 | >90 | >99.5 | >90 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 in 10 ns |
2530-i0 | 2530-i45 | 1064/400-700 | >99.5 | >85 | >99.5 | >80 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 in 10 ns |
2534-i0 | 2534-i45 | 1064/532 | >99.5 | >93 | >99.5 | >90 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 in 10 ns |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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