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簡(jiǎn)要描述：Eksma 可變衰減器990-0073可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動(dòng)學(xué)支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2024-04-23訪(fǎng) 問(wèn) 量：745相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 可變衰減器990-0073
適用于飛秒和ND：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0073
Eksma 可變衰減器990-0073
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動(dòng)學(xué)支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。
產(chǎn)品介紹
?將激光束分為兩束手動(dòng)調節的強度比，以68°角分開(kāi)
?大動(dòng)態(tài)范圍
?透射光束偏移?1.4毫米
?高光學(xué)損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑76.2 mm的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時(shí)透射p偏振光，并裝入分束器安裝座840-0056-13和石英零階（光學(xué)接觸）。直徑為40 mm的半波片（用于飛秒脈沖），零階空間隔的半波片（用于高功率應用）或多階半波片（用于Nd：YAG激光脈沖）容納在旋轉的偏振片支架840-0180-A2中，放置在入射的線(xiàn)性偏振激光束中。
可以通過(guò)旋轉波片來(lái)連續改變那兩個(gè)分離且不同的偏振光束的強度比，而無(wú)需改變其他光束參數?？梢栽诤軐挼膭?dòng)態(tài)范圍內控制出射光束的強度或其強度比?？梢赃x擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時(shí)可以反射高純度s偏振。
840-0056-13運動(dòng)安裝座可將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動(dòng)基座820-0090上。
距桌面的光軸高度可以在92-98 mm的范圍內調節?？梢蕴峁┢渌叨茸鳛槎ㄖ?，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。
產(chǎn)品型號
適用于Nd：YAG激光應用
代碼 | 波長(cháng) | 激光損傷閾值 |
990-0073-355 | 355 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
990-0073-532 | 532 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
990-0073-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
飛秒激光脈沖
代碼 | 波長(cháng) | 激光損傷閾值 |
990-0073-266 | 266 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-343 | 343 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-400 | 400 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-515 | 515 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800 | 800 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800B | 780-820 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030 | 1030 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030B | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
適用于高功率飛秒應用
代碼 | 波長(cháng) | 激光損傷閾值 |
990-0073-266H | 266 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-343H | 343 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-400H | 400 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-515H | 515 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800H | 800 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-800HB | 780-820 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030H | 1030 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0073-1030HB | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
通光孔徑 | 36 mm |
損害閾值 | |
對于Nd：YAG應用 | >5 J/cm2, 10 ns at, 10 Hz 1064 nm, typical |
飛秒應用 | >10 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical |
用于大功率應用 | >100 mJ/cm2, 50 fs at 800 nm, typical |
偏振比 | >1:200 |
透射光束偏移 | ~1.4 mm |
重量 | 0.6 kg |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過(guò)嚴格的檢查程序，質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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