簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)薄膜偏振片(矩形)將s偏振和p偏振分量分開(kāi)。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)
Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片(矩形)
薄膜偏振片(矩形)將s偏振和p偏振分量分開(kāi)。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品。
產(chǎn)品介紹
Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0%
Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0%
Ø對于高消光比的薄膜偏振片,Tp> 98%,Ts <0.1%
Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200:1
Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000:1(HE系列)
薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由于在800 nm,50 fsec時(shí)達到100 mJ / cm2的高損傷閾值,薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產(chǎn)品。
薄膜偏振片用于高能激光器。它們可用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長(cháng)及其諧波或腔內Q開(kāi)關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為200:1。Tp> 99%的薄膜激光偏振片可根據客戶(hù)要求提供。
產(chǎn)品型號
高消光比,UV FS,Tp> 98%,Ts <0.1%的薄膜偏振片
型號 | 材料 | 長(cháng)度 | 寬度 | 厚度 | 波長(cháng) |
420-1478HE | UVFS | 20 mm | 15 mm | 6.0 mm | 1030 nm |
420-1578HE | UVFS | 30 mm | 20 mm | 6.0 mm | 1030 nm |
標準薄膜偏振片,BK7,Rs / Tp> 99.5 / 95.0%
型號 | 材料 | 長(cháng)度 | 寬度 | 厚度 | 波長(cháng) |
420-0274 | BK7 | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 515 nm |
420-0278 | BK7 | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 1030 nm |
420-0286 | BK7 | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 800 nm |
420-0296 | BK7 | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 780-820 nm |
420-0298 | BK7 | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 1010-1050 nm |
標準薄膜偏振片,UV FS,Rs / Tp> 99.5 / 95.0%
型號 | 材料 | 長(cháng)度 | 寬度 | 厚度 | 波長(cháng) |
420-1272 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 343 nm |
420-1274 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 515 nm |
420-1278 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 1030 nm |
420-1283 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 400 nm |
420-1286 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 800 nm |
420-1296 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 780-820 nm |
420-1298 | UVFS | 28.6 mm | 14.3 mm | 3.0 mm | 1010-1050 nm |
材料 | BK7, UV FS |
表面質(zhì)量 | 20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
透射波前畸變 | λ/10 @ 633 nm |
透射效率 | Tp>95% |
消光比Tp / Ts | >200:1 |
激光損傷閾值 | >100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical, 50 Hz |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付。
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