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簡(jiǎn)要描述：Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉器與波片相比，旋轉器具有固有優(yōu)勢，與繞其自身光軸的旋轉無(wú)關(guān)。它不需要調整，只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉器通常用于特定波長(cháng)。它僅略微取決于環(huán)境溫度。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-17訪(fǎng) 問(wèn) 量：640相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉器
Eksma FEMTOLINE偏振平板旋轉器
旨在使用由晶體石英制成的圓形雙折射效應將光束偏振平面嚴格旋轉到合適的角度。
產(chǎn)品介紹
Ø旨在通過(guò)圓形雙折射效應將光束偏振平面嚴格旋轉到合適的角度
Ø由晶體石英制成
與波片相比，旋轉器具有固有優(yōu)勢，與繞其自身光軸的旋轉無(wú)關(guān)。它不需要調整，只需垂直于入射輻射安裝即可。偏振平面旋轉器通常用于特定波長(cháng)。它僅略微取決于環(huán)境溫度。
產(chǎn)品型號
型號 | 中心波長(cháng) | 偏振平面的旋轉角度 | AR鍍膜范圍 | |
470-4044 | 400 nm | 45° | 380-420 nm | |
470-4049 | 400 nm | 90° | 380-420 nm | |
470-4254 | 257 nm | 45° | 250-265 nm | |
470-4259 | 257 nm | 90° | 250-265 nm | |
470-4264 | 266 nm | 45° | 257-275 nm | |
470-4269 | 266 nm | 90° | 257-275 nm | |
470-4344 | 343 nm | 45° | 333-353 nm | |
470-4349 | 343 nm | 90° | 333-353 nm | |
470-4514 | 515 nm | 45° | 500-530 nm | |
470-4519 | 515 nm | 90° | 500-530 nm | |
470-4784 | 780 nm | 45° | 740-820 nm | |
470-4789 | 780 nm | 90° | 740-820 nm | |
470-4804 | 800 nm | 45° | 760-840 nm | |
470-4809 | 800 nm | 90° | 760-840 nm | |
470-4904 | 1030 nm | 45° | 1000-1060 nm | |
470-4909 | 1030 nm | 90° | 1000-1060 nm | |
材料 | 單晶石英 | |||
光軸 | 垂直于旋轉器的面S1，S2 | |||
通光孔徑 | Ø17mm | |||
環(huán)安裝外徑，D | 25.4mm+ 0.0 / -0.2mm | |||
表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B） | |||
波前畸變 | λ/ 10 @ 633nm | |||
平行性 | <10弧秒 | |||
增透膜 | R <0.5％ | |||
激光損傷閾值 | 100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800 nm | |||
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù)，其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學(xué)，工業(yè)，醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用，軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實(shí)現現成的交付。
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