簡(jiǎn)要描述:Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區域內,具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
高反射率和低群延遲色散,以800 nm為中心的寬區域內,具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。
產(chǎn)品介紹
Ø在以800 nm為中心的寬區域中具有高反射率和低群延遲色散
Ø硬質(zhì)介電體高反射或離子束濺射鍍膜
Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2,50 fsec脈沖,800 nm典型值
EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡。這些超快反射鏡設計用于Ti:Sapphire激光器的一階諧波。
標準反射鏡具有高反射率(> 99%),并且為082-7288HHR物品(UV FS,Ø25.4x 6 mm)定了更高的反射率(> 99.8%)。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
產(chǎn)品型號
BK7
型號 | 波長(cháng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, %(S+P)/2 |
071-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 45° | 99.0% |
071-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 3 mm | 0° | 99.0% |
071-7288T6 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.0% |
071-7288T6-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.0% |
072-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.0% |
072-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.0% |
074-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø38.1 x 8 mm | 45° | 99.0% |
074-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø38.1 x 8 mm | 0° | 99.0% |
075-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 45° | 99.0% |
075-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø50.8 x 8 mm | 0° | 99.0% |
077-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.0% |
077-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.0% |
078-7288 | 720-880 nm | BK7 | ø101.6 x 15 mm | 45° | 99.0% |
078-7288-i0 | 720-880 nm | BK7 | ø101.6 x 15 mm | 0° | 99.0% |
UVFS
型號 | 波長(cháng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, %(S+P)/2 |
081-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 45° | 99.0% |
081-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 0° | 99.0% |
081-7288T6 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.0% |
081-7288T6-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.0% |
082-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.0% |
082-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.0% |
082-7288HHR | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% |
084-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø38.1 x 8 mm | 45° | 99.0% |
084-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø38.1 x 8 mm | 0° | 99.0% |
085-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 45° | 99.0% |
085-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 0° | 99.0% |
087-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 45° | 99.0% |
087-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø76.2 x 12.7 mm | 0° | 99.0% |
088-7288 | 720-880 nm | UVFS | ø101.6 x 15 mm | 45° | 99.0% |
088-7288-i0 | 720-880 nm | UVFS | ø101.6 x 15 mm | 0° | 99.0% |
規格:
鍍膜 | 硬電介質(zhì)高反射或離子束濺射 |
入射角 | 0或45±3° |
專(zhuān)為平均偏振而設計 | R =(Rs + Rp)/ 2 |
激光損傷閾值 | > 50 mJ / cm2,50 fsec,800 nm典型值 |
基材:
材料 | UV級熔融石英或BK7玻璃 |
S1表面平整度 | 633 nm時(shí)為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡(jiǎn)單拋光 |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
楔 | <3分鐘 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應用中使用。 波長(cháng)范圍從紫外(193 nm)到可見(jiàn)光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項業(yè)務(wù),其基礎是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(cháng)期專(zhuān)業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學(xué),工業(yè),醫學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。
EKSMA光學(xué)拋光設備專(zhuān)門(mén)從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統制造技術(shù)部門(mén)和質(zhì)量控制設備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據客戶(hù)的圖紙和規格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現現成的交付。
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