簡(jiǎn)要描述:Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片用于分隔 Nd:YAG 激光器的常見(jiàn)諧波波長(cháng)。一表面上的分光鏡鍍膜至少能反射一個(gè)波長(cháng),并傳輸另一個(gè)波長(cháng)。分光鏡的第二表面具有防反射鍍膜,減少反射導致的損失.
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品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區間 | 面議 |
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組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片
用于分隔 Nd:YAG 諧波波長(cháng)
分光鏡鍍膜透射率 >95%
λ/10 熔融石英基片
Edmund Nd:YAG 諧波分離器濾光片用于分隔 Nd:YAG 激光器的常見(jiàn)諧波波長(cháng)。表面上的分光鏡鍍膜至少能反射一個(gè)波長(cháng),并傳輸另一個(gè)波長(cháng)。分光鏡的第二表面具有防反射鍍膜,減少反射導致的損失. TECHSPEC® Nd:YAG 諧波分離器是專(zhuān)為 45°入射角時(shí)的集成而設計。這些諧波分離器在多種波長(cháng)配置中提供,用于使系統設計獲得靈活性.
通用規格
厚度 (mm): | 6.35 ±0.20 |
基底: | Fused Silica |
入射角 (°): | 45 |
表面平整度: | λ/10 |
表面質(zhì)量: | 10-5 |
構造 | Dichroic |
產(chǎn)品信息
AOI (°) | 反射波長(cháng) (nm) | 傳輸波長(cháng) (nm) | Dia. (mm) | 涂層規格 | 產(chǎn)品編碼 |
45 | 266 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #11-545 |
45 | 266 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #11-546 |
45 | 266 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 266nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-722 |
45 | 266 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 266nm, Tabs: >95% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #37-721 |
45 | 355 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-720 |
45 | 355 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-719 |
45 | 355 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532, 1064nmSurface 2: Rabs: <0.75% @ 532, 1064nm | #38-779 |
45 | 355 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532, 1064nmSurface 2: Rabs: <0.75% @ 532, 1064nm | #38-778 |
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45 | 532 | 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #37-715 |
45 | 532, 1064 | 266 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >70% @ 266nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 266nm | #11-547 |
45 | 532, 1064 | 266 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >70% @ 266nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 266nm | #11-548 |
45 | 532, 1064 | 355 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532, 1064nm, Tabs: >90% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #38-781 |
45 | 532, 1064 | 355 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532, 1064nm, Tabs: >90% @ 355nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 355nm | #38-780 |
45 | 1064 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-714 |
45 | 1064 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #37-698 |
0 | 266 | 532, 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #22-658 |
0 | 266 | 532, 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >95% @ 266nm, Tabs: >98% @ 532nm, Tabs: >98% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <1.0% @ 532nm, Rabs <1.0% @ 1064nm | #22-659 |
0 | 355 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-662 |
0 | 355 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 355nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-663 |
0 | 532 | 1064 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #22-668 |
0 | 532 | 1064 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 532nm, Tabs: >95% @ 1064nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 1064nm | #22-669 |
0 | 1064 | 532 | 12.70 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-674 |
0 | 1064 | 532 | 25.40 | Surface 1: Rabs: >99% @ 1064nm, Tabs: >95% @ 532nmSurface 2: Rabs: <0.5% @ 532nm | #22-675 |
Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學(xué)、成像和光子技術(shù)供應商,自1942年成立以來(lái)一直服務(wù)于生命科學(xué),生物醫學(xué),工業(yè)檢測,半導體,研發(fā)和國防等各個(gè)行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學(xué)元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備,同時(shí)批量生產(chǎn)標準產(chǎn)品和定制產(chǎn)品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(gè)以上的國家/地區,擁有員工1,000多名并還在繼續擴大。
光學(xué)濾光片簡(jiǎn)介
濾光片選擇性地透射光譜的一部分,同時(shí)拒絕透射其余部分。愛(ài)特蒙特光學(xué)的光學(xué)濾光片常用于顯微鏡、光譜學(xué)、化學(xué)分析和機器視覺(jué),可提供各種過(guò)濾類(lèi)型和精度等級。本應用筆記介紹了用于制造愛(ài)特蒙特光學(xué)濾光片的不同技術(shù)、一些關(guān)鍵規范的定義以及愛(ài)特蒙特光學(xué)提供的各種濾光片的描述。
光學(xué)濾光片關(guān)鍵術(shù)語(yǔ)
雖然濾光片與其他光學(xué)組件有許多相同的規范,但是為了有效地了解并確定哪種濾光片適合您的應用,應該了解濾光片中的許多特定規范。
中心波長(cháng) (CWL)
用于定義帶通濾光片的中心波長(cháng)描述頻譜帶寬的中點(diǎn),濾光片在此之上傳輸。傳統的鍍膜光學(xué)濾光片傾向于在中心波長(cháng)附近達到大的透射率,而鍍加硬膜的光學(xué)濾光片往往在光譜帶寬上有相當平坦的傳輸輪廓。
帶寬
帶寬是一個(gè)波長(cháng)范圍,用于表示頻譜通過(guò)入射能量穿過(guò)濾光片的特定部分。帶寬又稱(chēng)為FWHM(圖1)。
圖 1: 中心波長(cháng)和半峰全寬說(shuō)明
半峰全寬 (FWHM)
FWHM
描述帶通濾光片將傳輸的頻譜帶寬。該帶寬的上限和下限是在濾光片達到大透射率的 50% 時(shí)的波長(cháng)下定義的。例如,如果濾光片的大透射率是 90%,那么濾光片達到透射率之 45% 時(shí)的波長(cháng)將定義 FWHM 的上限和下限。10 納米或更低的 FWHM 被認為是窄帶,通常用于激光凈化和化學(xué)檢測。25-50 納米的 FWHM 經(jīng)常用于機器視覺(jué)應用;超過(guò) 50 納米的 FHWM 被認為是寬帶,通常用于熒光顯微鏡應用。
截止范圍
阻斷范圍是用于表示通過(guò)濾光片衰減的能量光譜區域的波長(cháng)間隔(圖2)。阻斷程度通常會(huì )在光密度中定。
圖 2: 截止范圍說(shuō)明
斜率
斜率是通常在邊緣濾光片上定義的規范,如短波通或長(cháng)波通濾光片,用來(lái)描述濾光片從高截止轉換為高透射率的帶寬??梢詮母鞣N起點(diǎn)和終點(diǎn)定斜率,作為截止波長(cháng)的百分比。愛(ài)特蒙特光學(xué)有限公司通常將斜率定義為從 10% 傳輸點(diǎn)到 80% 傳輸點(diǎn)的距離。例如,將期望具有 1% 斜率的 500 納米長(cháng)波通濾光片在 5 納米(500 納米的 1%)帶寬上從 10% 的透射率轉換為 80% 的透射率。
光密度(OD)
光密度描述被濾光片阻斷或拒絕的能量量。高光密度值表示低透射率,低光密度則表示高透射率。6.0或更大的光密度用于兩端的阻斷需求,如拉曼光譜或熒光顯微鏡。3.0-4.0的光密度是激光分離和凈化、機器視覺(jué)和化學(xué)檢測的理想選擇,而 2.0 或更少的光密度是顏色排序和分離光譜順序的理想選擇。
圖3:光密度說(shuō)明
二向色性濾光片
二向色性濾光片是用于取決于波長(cháng)透射率或反射光的濾光片類(lèi)型;特定波長(cháng)范圍透射的光則鑒于不同范圍的光線(xiàn)反射或吸收(圖4)。二向色性濾光片常用于長(cháng)波通和短波通應用。
圖
4:
二向色性濾光片鍍膜說(shuō)明
起始波長(cháng)
起始波長(cháng)是用于表示在長(cháng)波通濾光片中透射率增加至50%波長(cháng)的術(shù)語(yǔ)。起始波長(cháng)由圖5中的λcut-on起始表示。
圖 5:
起始波長(cháng)說(shuō)明
截止波長(cháng)
截止波長(cháng)是用于表示在短波通濾光片中透射率降低至50%波長(cháng)的術(shù)語(yǔ)。截止波長(cháng)由圖6中的λcut-off截止表示。
圖
6:
截止波長(cháng)說(shuō)明
Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學(xué)、成像和光子技術(shù)供應商,自1942年成立以來(lái)一直服務(wù)于生命科學(xué),生物醫學(xué),工業(yè)檢測,半導體,研發(fā)和國防等各個(gè)行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學(xué)元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備,同時(shí)批量生產(chǎn)標準產(chǎn)品和定制產(chǎn)品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(gè)以上的國家/地區,擁有員工1,000多名并還在繼續擴大。Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學(xué)、成像和光子技術(shù)供應商,自1942年成立以來(lái)一直服務(wù)于生命科學(xué),生物醫學(xué),工業(yè)檢測,半導體,研發(fā)和國防等各個(gè)行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學(xué)元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備,同時(shí)批量生產(chǎn)標準產(chǎn)品和定制產(chǎn)品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(gè)以上的國家/地區,擁有員工1,000多名并還在繼續擴大。Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學(xué)、成像和光子技術(shù)供應商,自1942年成立以來(lái)一直服務(wù)于生命科學(xué),生物醫學(xué),工業(yè)檢測,半導體,研發(fā)和國防等各個(gè)行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學(xué)元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備,同時(shí)批量生產(chǎn)標準產(chǎn)品和定制產(chǎn)品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(gè)以上的國家/地區,擁有員工1,000多名并還在繼續擴大。Edmund Optics® (EO)作為優(yōu)良的光學(xué)、成像和光子技術(shù)供應商,自1942年成立以來(lái)一直服務(wù)于生命科學(xué),生物醫學(xué),工業(yè)檢測,半導體,研發(fā)和國防等各個(gè)行業(yè)。 EO設計并制造了一系列應用廣泛的光學(xué)元件、多元件鏡頭、成像系統以及光機械設備,同時(shí)批量生產(chǎn)標準產(chǎn)品和定制產(chǎn)品以支持OEM應用。 EO足跡現已遍布九個(gè)以上的國家/地區,擁有員工1,000多名并還在繼續擴大。
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